2月29日，青岛四方思锐智能技能有限公司（以下简称：思锐智能）宣告完结数亿元B轮融资。

  本轮融资由上汽集团战略直投、尚颀本钱和鼎晖出资联合领投；招商局创投、上海金浦、新鼎本钱、立异工场、华控基金、青创投等闻名出资者跟投；海松本钱、海澳芯科、鑫芯创投、珩创出资、同歌创投等老股东继续加持。

  据悉，思锐智能聚集要害半导体前道工艺设备的研制、出产和出售，供给具有自主可控的中心要害技能的体系配备产品和技能服务计划，现在已构成“双主业”布局，产品有原子层堆积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，可大规模的使用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等许多高精尖范畴。

  其间，离子注入是半导体器材和集成电路出产的要害工艺之一，可大起伏进步集成电路的成品率。我国现已开始完成了低能大束流和中束流离子注入机的研制，可是技能难度最高的高能离子注入机一向被海外企业独占。

  思锐智能于2021年敞开离子注入设备的研制攻关，最总算2023年成功研制出国内首台能量到达8MeV（兆电子伏特）的高能离子注入机，该设备可使用于功率器材、IGBT、CMOS图画传感器、5G射频、逻辑芯片等集成电路首要器材的制备，现已成功交给国内头部企业。

  原子层堆积方面，思锐智能于2018年完结对ALD技能发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收买作业。2023年7月，思锐智能宣告与英诺赛科签定ALD设备收购协议，思锐智能需为英诺赛科供给用于氮化镓半导体晶圆制作前道工艺的Transform系列量产型ALD堆积镀膜设备，支撑其8英寸硅基氮化镓晶圆产线的扩大。

  据悉，Transform系列量产型ALD堆积镀膜设备可支撑装备多个ALD工艺模块，兼容热法及等离子体功用，可为应对一向增加的产能和新的使用而进行晋级，现在已进入欧洲、北美、日本和中国大陆及台湾地区闻名厂商，并完成重复订单。

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